A reactor designed for chemical vapor deposition method and method of producing elementalboron and advanced ceramic powders with this reactor

Duman İ., Ağaoğulları D., Balcı Ö., Öveçoğlu M. L.

Patent, BÖLÜM C Kimya; Metalürji, Buluşun Tescil No: EP 2 735 544 A3 , Standart Tescil, 2014, Tescil Edildi

• Fikri Mülkiyet: Patent
• Başvuru Yapılan Ülke/Kuruluş: Türkiye
• Buluşun Durumu: Tescil Edildi
• Başvuru Tarihi: 27.11.2013
• Tescil Tarihi: 28.05.2014